Prof. Tiziani hob die Bedeutung des seit 17 Jahren etablierten Kolloquiums über die Fachthemen hinaus für den Austausch zwischen Wirtschaft und Wissenschaft hervor. In seinem Übersichtsvortrag wies er auf die Bedeutung der adaptiven Optik für die Telekommunikation, die Medizin und Biotechnologie, die Messtechnik, Lasertechnik, Astronomie und die Beleuchtungstechnik hin. Er stellte neue Module vor, die eine große Rolle in der adaptiven Optik spielen wie elektrisch und optisch adressierte Flüssigkristalle und Membranspiegel. Am Beispiel der Vermessung von asphärischen Komponenten wurde mit einem adaptiven Shack-Hartmann-Sensor demonstriert, dass Flüssigkristalle durch ihre hohe Auflösung und einfache Ansteuerbarkeit flexible Verfahren in der aktiven optischen Messtechnik ermöglichen. Auch vom Institut für Bildschirmtechnik der Universität Stuttgart werden LCD-Displays und Li.htmlodulatoren als Neuentwicklungen eingesetzt. Im Bereich der Halbleiterlichtquellen wird inzwischen der Wellenlängenbereich von Blau bis in das mittlere Infrarot abgedeckt. Halbleiterlichtquellen sind Schlüsselkomponenten in der Informations- und Kommunikationstechnik, der Unterhaltungselektronik, im Automobilbau und noch vielen anderen Gebieten geworden. Wissenschaftler des Instituts für Angewandte Physik der TU Darmstadt präsentierten Arbeiten auf dem Gebiet des Designs und der Herstellung adaptiver Elemente auf der Basis von Flüssigkristallen. Mit speziellen Elektrodenanordnungen werden dort steuerbare Linsensysteme und Korrekturelemente für Wellenfrontaberrationen realisiert. Mitarbeiter von Carl Zeiss (Oberkochen) berichteten über die adaptive Wellenfront-Korrektion in optischen Instrumenten. Neueste Ergebnisse auf dem Gebiet der Smart Pixels stellte Prof. Seitz (CSEM) vor. Hintergrund und Schwierigkeiten von Identifikationsproblemen in der optischen Messtechnik behandelte Dr. Osten (BIAS). Der neueste Stand beim optischen Design von Projektionsoptiken für die EUV-Lithographie zeigt sich beim Einsatz von Spiegelsystemen, die eine Auflösung von Strukturen kleiner als 50 Nanometer ermöglichen. Das Unternehmen Carl Zeiss stellte verschiedene Spiegel-Projektionsoptiken zunehmender Komplexität vor. Auch Beleuchtungssysteme für die EUV-Lithographie spielen eine wichtige Rolle in der optischen Lithographie. Über die Beleuchtung wird der Kohärenzgrad der Abbildung gesteuert, der wesentlich zur Bildqualität beiträgt. Diffraktiv optische Elemente gewinnen als Ersatz oder Ergänzung zu klassischen refraktiven Bauelementen wie Linsen und Prismen zunehmend an Bedeutung. Neue Ansätze bei der Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für diffraktiv-optische Elemente wurden von der Firma SwissOptic AG, Heerbrugg, vorgestellt, beispielsweise die Fertigung von Resonanzfiltern, Polarisationsfiltern sowie von Antireflex-Strukturen. Die Messtechnik und Simulation mit elektromagnetischen Wellen war das Abschlussthema aus dem Institut für Technische Optik. Hier wurde die Nutzung der Polarisation in der Optik als eine sinnvolle Erweiterung der Interferometrie interpretiert. 

Christel Budzinski/uk

Kontakt
Prof. Dr. Hans Tiziani, Institut für Technische Optik, Pfaffenwaldring 9, 70569 Stuttgart, 
Tel. 0711/685-6075, 
Fax 0711/685-6586