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Laserdirektbelichtung in Polarkoordinaten CLWS300

 

Logo:Laserdirektbelichtung in Polarkoordinaten CLWS300 Laserdirektbelichtung
Anwendungsbeispiele
Performance
References

Diffraktive Optiken und Mikrooptiken bieten Möglichkeiten, die konventionelle Optiken nicht bieten können. Verschiedene Fertigungstechnologien, zumeist auf Basis von Lithografietechniken, werden zu ihrer Herstellung verwendet. An unserem Institut wird seit Jahren erfolgreich die computergesteuerte Laserdirektbelichtung verwendet. Unser Schreibsystem arbeitet in Polarkoordinaten, was einige entscheidende Vorteile gegenüber konventionellen x/y-Systemen hat: Die Achsen sind komplett unabhängig und können daher sehr präzise kontrolliert werden. Die Fertigung rotationssymmetrischer Optiken vereinfacht sich drastisch. Es werden sehr hohe Scanraten erzielt, was insbesondere für grossflächige, hochaufgelöste computergenerierte Hologramme von Bedeutung ist.

 

Laserdirektbelichtung

Die Laserdirektbelichtung benutzt einen Schreibstrahl, der computergesteuert ein lichtempfindliches Substrat abrastert und auf diese Weise die gewünschte Struktur sukzessive aufbaut. Beim CLWS300 ist das Prinzip ganz ähnlich wie beim DVD-Brenner: Das Substrat befindet sich auf einem Drehteller, der sich mit einer bestimmten Winkelgeschwindigkeit dreht. Der Schreibkopf fährt radial nach aussen und wird synchron zur Drehbewegung angesteuert.

Verschiedene Schreibprozesse werden je nach Anwendung verwendet:
  • Binär: Thermochemisch (Chrom/Chromoxid); Photochemisch (Photoresist)
      Anwendungen:
    • Amplitudenmasken
    • binäre CGH (Amplituden- oder Phasenhologramme)
    • binäre Gitter
  • Mehrstufig: Graustufen-Direktbelichtung in Photoresist, Grautonmasken
      Anwendungen:
    • Photoresistmaster für Replikation
    • Strahlformer
    • Mikrooptiken
    • diffraktive Funktionselemente für chromatische Anwendungen

Anwendungsbeispiele

 

CGH für den Asphärentest CGH für den Asphärentest
Nipkow-Mikrolinsen-Scheiben für die konfokale Mikroskopie Nipkow-Mikrolinsen-Scheiben für die konfokale Mikroskopie
Mikrooptische Komponente eines phasenschiebenden Punktlichtquellenarrays für die Interferometrie mit dynamischer Referenz Mikrooptische Komponente eines phasenschiebenden Punktlichtquellenarrays für die Interferometrie mit dynamischer Referenz
Zweiseitige Strahlformungsoptiken für Halbleiterlaser Zweiseitige Strahlformungsoptiken für Halbleiterlaser
Galvanisch aufgebaute diffraktive Kupfer-Strahlformungsoptiken für den Einsatz im Leistungsstrahl von CO2-Materialbearbeitungslasern. Galvanisch aufgebaute diffraktive Kupfer-Strahlformungsoptiken für den Einsatz im Leistungsstrahl von CO2-Materialbearbeitungslasern.

 

Performance

 

Laserdirektbelichtung in Polarkoordinaten
CLWS300

Kleinste Strukturgrössen < 1µm (binär)
Max. Substratgrösse Ø 300 mm
Dicke: 25 mm
Schreibgeschwindigkeit (typ.) on-axis: 9 mm / h
  off-axis: 4 mm / h
Wellenlänge 457 nm / 488 nm
Positionierungsschrittweite  
radial 0.6 nm
azimuthal 1'' @ 600 rpm
clws300
Rotationstisch und Schreibkopf des Laserbelichtungssystems CLWS300

 


Referenzen & Links


[1] A. G. Poleshchuk, E. G. Churin, V. P. Koronkevich, V. P. Korolkov, A. A. Kharissov, V. V. Cherkashin, V. P. Kiryanov, A. V. Kiryanov, S. A. Kokarev, and A. G. Verhoglyad. Polar coordinate laser pattern generator for fabrication of di.ractive optical elements with arbitrary structure. Applied Optics, 38(8):1295–1301, 1999.
[2] S. Reichelt, R. Freimann, and H. J. Tiziani. Absolute interferometric test of Fresnel zone plates. Optics Communications, 200:107–117, 2001.
[3] C. Pruss, S. Reichelt, V. P. Korolkov, W. Osten, and H. J. Tiziani. Performance improvement of CGHs for optical testing. In W. Osten, editor, Optical Measurement Systems for Industrial Inspection III, volume 5144 of Proceedings of SPIE, pages 460–471. SPIE–The International Society for Optical Engineering, 2003.

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