Ziel der Arbeitsgruppe Hochauflösende Messtechnik und Simulation ist die Untersuchung und Entwicklung optischer Messverfahren, die eine hochpräzise Strukturvermessung im Sublambdabereich erlauben. Unsere Arbeit konzentriert sich hierbei insbesondere auf die Charakterisierung optisch wirksamer Oberflächen und Volumina als auch technischer Oberflächen aus dem Bereich der Halbleiterindustrie. 

Da die heutigen Genauigkeitsanforderungen an die optische Metrologie das optische Auflösungsvermögen um bis zu zwei Grössenordnungen unterschreiten, ist ein präzises Verständnis der Wechselwirkung des Lichtes mit der untersuchten Struktur unerlässlich. Die Notwendigkeit, Strukturdetails im herkömmlichen Sinne auflösen zu können, wird dabei immer mehr durch eine hochpräzise modellbasierte Objektrekonstruktion ersetzt.

Unsere Arbeitsschwerpunkte liegen daher einerseits in der rigorosen Simulation der eigentlichen Licht-Struktur-Wechselwirkung bis hin zur Modellierung des kompletten optischen Messprozesses, andererseits in der experimentellen Untersuchung neuer und bewährter Messverfahren, die neben der Intensität die Polarisation und die Phase des Lichtes als weitere Informationskanäle nutzten, um Strukturinformation höchster Genauigkeit zu erhalten. Hierzu zählen neben mikroskopischen Verfahren, die Diffraktometrie, Scatterometrie und polarisationsaufgelöste Tomographie.

	Defektoskopie			Scatterometrie
	Modellierung und Simulation			Metamaterialien